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专利名称：涂敷显影装置及其方法以及存储介质专利类型：发明专利
发明人：松冈伸明,桥本隆浩,土屋胜裕,林伸一,林田安申请号：CN200810090960.6申请日：20080331公开号：CN101276745A公开日：20081001
摘要：本发明提供一种易于对搬送程序进行编程并且能够提高处理能力的技术，在第一处理块和第二处理块之间设置有交接块，利用第一直通搬送单元将基板从载体块搬送至交接块，从此处将基板分配交接至第一处理块的涂敷膜形成用单位块和第二处理块的涂敷膜形成用单位块。接着，若通过第一和第二处理块分别形成有涂敷膜的的基板被集中在交接块，则从此处通过第二直通搬送单元将晶片交接至界面块。因为处理块增加，所以能够提高处理能力，此外因为从载体块向第一处理块的搬送路径与向第二处理块的搬送路径相同，所以容易对搬送程序进行编程。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：刘春成
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