二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征

刘晓云;赵辉鹏;李兰;阎捷;查刘生

【期刊名称】《分析测试学报》 【年(卷),期】2006(25)6

【摘 要】采用溶胶-凝胶法合成粒径在50～150 nm范围内的二氧化硅(SiO2)纳米粒子.用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对SiO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团.用元素分析、FTIR、13C CP/MAS NMR和29Si CP/MAS NMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征,以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上.分析修饰过的SiO2纳米粒子的29Si CP/MAS NMR和FTIR谱图,还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面,最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应.

【总页数】5页(P5-9)

【作 者】刘晓云;赵辉鹏;李兰;阎捷;查刘生

【作者单位】东华大学,纤维材料改性国家重点实验室,上海,200051;东华大学,分析测试中心,上海,200051;东华大学,分析测试中心,上海,200051;东华大学,分析测试中心,上海,200051;东华大学,纤维材料改性国家重点实验室,上海,200051;东华大学,分析测试中心,上海,200051 【正文语种】中 文

【中图分类】O613.32;O653 【相关文献】

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