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专利名称：多电子束聚焦装置和控制方法专利类型：发明专利发明人：尹华碧
申请号：CN202010812526.5申请日：20200813公开号：CN111883408A公开日：20201103
摘要：本发明公开了一种多电子束聚焦装置和控制方法，所述多电子束聚焦装置包括用以产生电子束的热或冷场发射阴极电子源和栅极、电子束分束的分束器、提高电子束能量的加速透镜、提高电子束质量的消相差透镜、对各电子束束斑的高分辨物镜阵列、对电子束位置进行微调的电子束偏转器以及控制电子束通过的束闸，以便于对电子束的精准控制，因此在相同面积的圆晶上可以容纳数量更多的电子束实现同时曝光，提高了集成电路加工应用中的精度和速度。
申请人：深圳市奥谱太赫兹技术研究院
地址：518000 广东省深圳市坪山区金牛西路16号华瀚科技工业园2号厂房
国籍：CN
代理机构：广东良马律师事务所
代理人：李良
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