压差密封结构

（12）实用新型专利

（21）申请号 CN2017214268.1 （22）申请日 2017.11.09

（71）申请人 昆明纳太科技有限公司

地址 云南省昆明市高新区科发路139号云南省大学科技园2期A2幢3楼307号

（10）申请公布号 CN207527039U

（43）申请公布日 2018.06.22

（72）发明人 陈东平;肖辉;冯俊杰;刘铸

（74）专利代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人 林青中

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

压差密封结构

（57）摘要

本实用新型公开了一种压差密封结构。该

压差密封结构包括密封底层、密封接触层以及粘接层。该压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法既能够用于静密封，又能够用于动密封，尤其适合两侧具有压力差的密封，如使用在具有负压的真空结构上，其中密封接触层可以直接贴合在待密封部位，由于密封接触层为弹性体，在密封接触层两侧有压力差存在的情况下，可紧紧地贴合在待密封部位，而密封底层的弹性

模量较大，可给密封接触层提供一个很好的压力及其强度保障，防止密封接触层在两侧压力差的作用下被吸入待密封部位的缝隙中。因而上述压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法密封效果好，使用灵活方便。

法律状态

法律状态公告日

2018-06-22

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授权

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说明书

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