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专利名称：一种光栅的二维线密度测量方法及系统专利类型：发明专利
发明人：杜亮亮,程显超,叶雁,孟立民,安然,赵宇,李生福申请号：CN201910162265.4申请日：20190305公开号：CN109738167A公开日：20190510
摘要：本发明公开了一种光栅的二维线密度测量方法及系统，所述系统中，缩束准直器、一维π位相片、偏振分束镜、1/4波片、两块平面反射镜和电动二维平移台依次设置在激光发射器发射的激光的光路上；双平面反射镜设置在电动旋转台上；待测光栅放置在电动二维平移台上，激光经缩束准直器、一维π位相片、偏振分束镜、1/4波片和两块平面反射镜后照射到待测光栅表面；电动旋转台用于旋转带动双平面反射镜使光沿原光路返回，在返回的光路上依次设置所述两块平面反射镜、1/4波片、偏振分束镜、聚焦镜和CCD探测器。本发明能够实现不同面型、不同线密度的光栅的二维线密度的高精度测量。
申请人：中国工程物理研究院流体物理研究所
地址：621000 四川省绵阳市游仙区绵山路号
国籍：CN
代理机构：成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人：钱成岑
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