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专利名称：中子捕获治疗系统专利类型：实用新型专利发明人：陈韦霖,卢威骅申请号：CN201920343655.7申请日：20190312公开号：CN210302074U公开日：20200414
摘要：为了减少从照射室溢出的中子进入加速器室，提供一种中子捕获治疗系统，包括设于加速器室的产生带电粒子束的加速器、设于照射室的射束整形体、带电粒子传输部以及屏蔽体，加速器室的屏蔽墙上设有收容部；照射室的屏蔽墙上设有埋设至少部分射束整形体的埋设部，射束整形体中的中子产生部与带电粒子射束作用产生治疗用中子射束；带电粒子射束传输部将加速器形成的带电粒子射束传输至射束整形体，带电粒子射束传输部通过收容部连接于加速器，带电粒子射束传输部通过埋设部连接于射束整形体并将带电粒子射束传输至中子产生部；屏蔽体位于加速器室和照射室之间以减少带电粒子射束与中子产生部作用产生的中子从埋设部溢出后通过收容部进入加速器室。
申请人：中硼(厦门)医疗器械有限公司
地址：361026 福建省厦门市海沧区翁角西路2036号
国籍：CN
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